光刻技术
内容简介:本书旨在帮助读者掌握驱动光学光刻的基本方程和常数的相关知识,学习曝光系统和图像形成的基础理论,并了解光刻系统组件、处理和优化的相关知识;读者还可掌握光学光刻技术的前景和总体情况,加强对半导体制造技术的认知;还添加了接近印刷方面的全新材料,以及曝光系统、图像形成、E-D方法、硬件组件、处理和优化方面的更新和扩展材料,以及EUV技术和最新的浸没式光刻相关技术。
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