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衍射极限附近的光刻工艺

著者伍强[等]编著
ISBN9787302676119
分类号TN305.7 电子技术、通信技术
学科工学
版次第2版
出版社清华大学出版社
丛书名先进集成电路工艺技术丛书
出版年2024
价格¥368.00
页码22,672页
类型 📄 纸质书
核心评分8.8/10
读者对象—
主题词光刻设备—研究
内容简介：本书以光刻工艺为主线，将光刻设备、光刻材料、光刻成像的理论计算、光刻工艺中各种建模思想和推导、芯片制造的技术发展要求，以及对光刻工艺各项参数的要求紧密地联系在一起，为读者展现一个整体的图景。
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