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内容简介：本书分专利制度、商标制度、集成电路布图保护设计制度、其他4个专题, 汇编15篇文章, 围绕近年来知识产权领域的热点问题展开研究。相关文章是知识产权各相关领域的最新研究成果, 涉及职务科技成果长期使用权、图形用户界面法律保护、强化商标使用义务、禁止商标重复注册制度、集成电路布图设计中的独创性说明制度、知识产权基础性法律立法可行路径、商业秘密保密措施认定规则等。