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内容简介：本书首先分析高能激光系统对单晶硅反射镜等元件的精度与激光负载能力要求，指出传统工艺瓶颈，引入离子束抛光(IBF)技术，其凭借非接触式加工、高精度等特性成为关键解决方案。接着围绕离子束加工机理展开，涵盖曲面去除函数仿真建模、倾斜入射下单晶硅表面质量演变规律，揭示入射角度、靶距等参数对加工效率与表面质量的影响。针对功能序构层，研究离子束诱导的空位、非晶层等结构对光学性质的影响，结合化学机械抛光(CMP)调控层厚，平衡反射率提升与吸收抑制。同时，探讨中高频误差的吸收特性，引入功率谱密度理论优化能量吸收模型，并开发光顺工艺抑制复杂曲面误差。最后，通过平面、抛物面、柱面等典型元件的联合工艺加工实例，展示全流程缺陷抑制与全频段精度提升效果，验证工艺可行性。