← 返回

先进光刻机曝光系统光学设计

著者李艳秋著
ISBN9787030860217
分类号TN305.7 电子技术、通信技术
学科工学
版次第1版
出版社科学出版社
丛书名
出版年2026
价格¥120.00
页码177页
类型 📄 纸质书
核心评分8.6/10
读者对象
主题词光刻设备—曝光系统—光学设计
内容简介:本书内容包括光刻机发展历程以及深紫外/极紫外光刻机曝光系统光学设计的发展历程;光刻机曝光系统光学设计基础;浸没式深紫外光刻机物镜系统光学设计基础、方法与系统设计;深紫外光刻机照明系统光学设计基础、方法与系统设计;极紫外光刻机匀倍率/变倍率物镜系统光学设计基础、方法与系统设计;极紫外光刻机匀倍率/变倍率照明系统光学设计基础、方法与系统设计。
登录后可荐购