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先进光刻机曝光系统光学设计
著者
李艳秋著
ISBN
9787030860217
分类号
TN305.7 电子技术、通信技术
学科
工学
版次
第1版
出版社
科学出版社
丛书名
—
出版年
2026
价格
¥120.00
页码
177页
类型
📄 纸质书
核心评分
8.6
/10
读者对象
—
主题词
光刻设备—曝光系统—光学设计
内容简介:
本书内容包括光刻机发展历程以及深紫外/极紫外光刻机曝光系统光学设计的发展历程;光刻机曝光系统光学设计基础;浸没式深紫外光刻机物镜系统光学设计基础、方法与系统设计;深紫外光刻机照明系统光学设计基础、方法与系统设计;极紫外光刻机匀倍率/变倍率物镜系统光学设计基础、方法与系统设计;极紫外光刻机匀倍率/变倍率照明系统光学设计基础、方法与系统设计。
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