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III族氮化物的X射线衍射分析

著者王文樑著
ISBN9787030826497
中图分类O657.39 化学
学科分类理学
版次第1版
出版社科学出版社
丛书名半导体科学与技术丛书
出版年2025
页码222页
价格¥128.00
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核心评分
8.7/10
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📝 内容简介
本书以III族氮化物的X射线衍射分析为核心,系统地阐述了该技术在薄膜表征中的多方面应用。本书共7章,各章节内容既相互独立又有机联系。第1章概述了III族氮化物薄膜的研究现状、X射线衍射的基本原理及其在该材料体系中的应用背景;第2章深入探讨了X射线衍射在薄膜面内外取向关系分析中的具体应用;第3章重点介绍了原位X射线衍射技术及其在薄膜外延生长实时监测中的应用;第4章详细论述了X射线衍射测定薄膜晶格常数的技术要点,并对测量误差来源进行了系统分析;第5章全面阐述了X射线衍射在薄膜应力分析中的应用,包括应力来源、影响因素及优化策略;第6章着重探讨了X射线衍射技术在薄膜缺陷表征中的应用及其误差控制方法;第7章则从单层和多层结构两个维度系统介绍了X射线衍射在薄膜厚度及层数分析中的具体应用。
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