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光刻技术
| 著者 | 林本坚(Burn J. Lin)著,严天宏译 |
| ISBN | 9787122451514 |
| 中图分类 | TN305.7 电子技术、通信技术 |
| 学科分类 | 工学 |
| 版次 | 第1版 |
| 出版社 | 化学工业出版社 |
| 丛书名 | — |
| 出版年 | 2024 |
| 页码 | 369页 |
| 价格 | ¥198.00 |
| 可推荐册数 | 请登录后查看 |
| 核心评分 |
9.5/10
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📝 内容简介
本书旨在帮助读者掌握驱动光学光刻的基本方程和常数的相关知识，学习曝光系统和图像形成的基础理论，并了解光刻系统组件、处理和优化的相关知识；读者还可掌握光学光刻技术的前景和总体情况，加强对半导体制造技术的认知；还添加了接近印刷方面的全新材料，以及曝光系统、图像形成、E-D方法、硬件组件、处理和优化方面的更新和扩展材料，以及EUV技术和最新的浸没式光刻相关技术。
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