📖 书目详情
热丝化学气相沉积技术—technology and applications of CatCVD
| 著者 | (日)松村英树[等]著,黄海宾，沈鸿烈等译 |
| ISBN | 9787122456632 |
| 中图分类 | TG174.444 金属学与金属工艺 |
| 学科分类 | 工学 |
| 版次 | 第1版 |
| 出版社 | 化学工业出版社 |
| 丛书名 | — |
| 出版年 | 2024.07 |
| 页码 | 345页 |
| 价格 | ¥198.00 |
| 可推荐册数 | 请登录后查看 |
| 核心评分 |
9.5/10
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📝 内容简介
本书介绍了CatCVD技术，包括其基本原理、设备设计及应用，具体包括CatCVD的物理基础及其与等离子增强化学气相沉积的区别、CatCVD中化学反应的分析方法及基本原理、CatCVD物理化学基础、CatCVD制备的无机薄膜性能、引发化学气相沉积(iCVD)合成有机聚合物、CatCVD设备运行中的物理基础与技术、CatCVD在太阳电池和各种半导体器件中的应用、CatCVD系统中的活性基团及其应用，最后介绍了利用CatCVD腔室中产生的活性基团，在低温下进行半导体掺杂。
🏛️ 本馆馆藏信息
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