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衍射极限附近的光刻工艺
| 著者 | 伍强[等]编著 |
| ISBN | 9787302676119 |
| 中图分类 | TN305.7 电子技术、通信技术 |
| 学科分类 | 工学 |
| 版次 | 第2版 |
| 出版社 | 清华大学出版社 |
| 丛书名 | 先进集成电路工艺技术丛书 |
| 出版年 | 2024 |
| 页码 | 22,672页 |
| 价格 | ¥368.00 |
| 可推荐册数 | 请登录后查看 |
| 核心评分 |
8.6/10
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📝 内容简介
本书以光刻工艺为主线，将光刻设备、光刻材料、光刻成像的理论计算、光刻工艺中各种建模思想和推导、芯片制造的技术发展要求，以及对光刻工艺各项参数的要求紧密地联系在一起，为读者展现一个整体的图景。
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