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先进光刻机曝光系统光学设计
| 著者 | 李艳秋著 |
| ISBN | 9787030860217 |
| 中图分类 | TN305.7 电子技术、通信技术 |
| 学科分类 | 工学 |
| 版次 | 第1版 |
| 出版社 | 科学出版社 |
| 丛书名 | — |
| 出版年 | 2026 |
| 页码 | 177页 |
| 价格 | ¥120.00 |
| 可推荐册数 | 请登录后查看 |
| 核心评分 |
8.3/10
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📝 内容简介
本书内容包括光刻机发展历程以及深紫外/极紫外光刻机曝光系统光学设计的发展历程；光刻机曝光系统光学设计基础；浸没式深紫外光刻机物镜系统光学设计基础、方法与系统设计；深紫外光刻机照明系统光学设计基础、方法与系统设计；极紫外光刻机匀倍率/变倍率物镜系统光学设计基础、方法与系统设计；极紫外光刻机匀倍率/变倍率照明系统光学设计基础、方法与系统设计。
🏛️ 本馆馆藏信息
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